Elísabet Fernández Mansilla

Hace un mes nos sorprendía la noticia del Premio Nobel 2010  por la investigación del grafeno.

 

Estos mismos físicos, nos vuelven a sorprender tras anunciar un nuevo descubrimiento, se trata de un material derivado del grafeno, al que llaman “Flúorgrafeno”, este material presenta propiedades distintas a las del grafeno, como por ejemplo, la no conducción de la corriente eléctrica. Su proceso de desarrollo asociado con su obtención es muy complejo.

La estructura interna de este material es similar a la del grafeno, cuyo aspecto podemos ver en la foto, es decir;  son hexágonos perfectos, tal y como un panel de abejas, que se compone de átomos de carbono únicos colocados entre sí. Esta ordenación de los átomos le convierten en un buen conductor de la corriente eléctrica y también en un buen conductor de calor. Su estructura le hace ser un material muy fuerte que será de gran ayuda en la mejora de la industria electrónica.

 

Sin embargo, el nuevo compuesto no es un buen conductor de la electricidad, esto se debe, a que en su estructura interna, que como ya hemos dicho es similar a la del grafeno, la diferencia es que por cada átomo de carbono individual en la matriz de grafeno tiene un átomo de flúor asociado a él. Esto le hace ser más fuerte aún que el grafeno, y más estable que su predecesor 2D.  Algo que no conseguían con el hidrógeno, elemento con el que probaron antes que con el flúor, y que observaron que se volvía inestable al aumentar la temperatura.

 

Refiriéndonos de nuevo a las propiedades del fluorgrafeno, el ser un material fuerte  destruye la nube de electrones en grafeno, previene el movimiento de los electrones y por tanto, el flujo de electricidad.

 

Según el investigador Rahul Raveendran-Nair de la Universidad de Manchester que participó en la investigación del fluorgrafeno es “el aislante más fino posible, realizado mediante la fijación de átomos de flúor a cada uno de los átomos de carbono en el grafeno”

 

“Es la primera derivada de química estequiométrica de grafeno y es un semiconductor de espacio de anchura. El fluorgrafeno es un compuesto mecánicamente fuerte y estable químicamente y térmicamente”.

 

“Las propiedades de este nuevo material son muy similares al teflón y llamamos a este material teflón 2D”,

 

“El flúor es un elemento altamente reactivo y reacciona con casi todo”, explica Nair. “Por tanto el desafío era fluorizar plenamente el grafeno sin dañar el grafeno y sus sustratos auxiliares”. 

 

Esto fue logrado exitosamente por el equipo y sus colaboradores internacionales.

 

Elísabet Fernández Mansilla, 9 de noviembre de 2010