Novedades SCAI

Incentivos JA - SOMM17-6116 Expte. 2020-00044 - Equipo de deposición química de vapor asistida por plasma (PECVD)

NUEVA CABECERA NOVEDDAD SIPI

Adquisición de un equipo de deposición química de vapor asistida por plasma (PECVD)

El Instituto de Química Fina y Nanoquímica de la UCO (IUNAN) ha incorporado un equipo de deposición química de vapor asistida por plasma (PECVD), con cargo al proyecto SOMM17-6116 concedido por la Consejería de Economía y Conocimiento de la Junta de Andalucía para Ayudas para el Fortalecimiento de Institutos Universitarios de Investigación de las Universidades Andaluzas, Centros e Infraestructuras para la adquisición del sello «Severo Ochoa» o «María Maeztu», en el ámbito del Plan Andaluz de Investigación, Desarrollo e Innovación (PAIDI 2020), cofinanciada con fondos FEDER, cuyo Responsable Científico es el investigador Francisco José Romero Salguero.